隨著我國工業(yè)發(fā)展，生產(chǎn)裝置變得越來越復(fù)雜。很多工業(yè)場合都存在大量的儲罐，為了加強(qiáng)對生產(chǎn)過程的安全監(jiān)控，需要給儲罐加裝液位監(jiān)測儀表，雷達(dá)液位計(jì)由于其安裝簡便，精度高，維護(hù)方便，價格適中，是很多企業(yè)罐區(qū)液位測量的重要方式之一。

幾乎沒有任何一個行業(yè)像化工行業(yè)那樣對測量技術(shù)提出如此多樣化的要求。其應(yīng)用范圍涵蓋從不同容量的簡單倉儲容器直至帶有多級攪拌裝置和加熱盤管的復(fù)雜反應(yīng)容器。而在產(chǎn)品特性和過程條件不斷變化的反應(yīng)器中，雷達(dá)技術(shù)比其他測量方法具有明顯優(yōu)勢。

液氯臥罐測量

液氯儲罐多為臥罐，介質(zhì)有腐蝕性（主要腐蝕橡膠類材質(zhì)，不腐蝕金屬類材質(zhì)），故儀表內(nèi)部密封圈材質(zhì)應(yīng)特別注意，選用不會被氯腐蝕的材質(zhì)。由于介質(zhì)有劇毒，連接件的密封必須到位。多采用接觸式雷達(dá)液位計(jì)測量液位。 

測量任務(wù)：液位高度

測量點(diǎn)：儲罐

測量范圍：0~3M

介質(zhì)：液氯

過程溫度：-40~80

過程壓力：0~1.6MPA

液氨球罐測量

液氨儲罐多為球罐，介質(zhì)有腐蝕性（主要腐蝕橡膠材料，輕微腐蝕金屬材料），儀表內(nèi)部密封圈材質(zhì)應(yīng)選用不被氨腐蝕的材質(zhì)。絕大多數(shù)的氨罐上儀表測量故障，都是因?yàn)槊芊馊Ρ桓g后造成泄漏，造成儀表電路部分故障。此罐體多采用非接觸式雷達(dá)液位計(jì)測量液位。

測量任務(wù)：液位高度

測量點(diǎn)：儲罐

測量范圍：0~10M

介質(zhì)：液氨

過程溫度：-40~80

過程壓力：0~2.5MPA

VCM單體臥罐

VCM單體儲罐多為臥罐，其介質(zhì)有一定聚合性，選型時需考慮。VCM單體聚合時，會產(chǎn)生大量結(jié)晶。如采用導(dǎo)波或者喇叭天線時，會有大量結(jié)晶結(jié)在導(dǎo)波桿或者喇叭天線上，會對測量產(chǎn)生*大的影響。多采用非接觸式平板雷達(dá)液位計(jì)測量液位。

測量任務(wù)：液位高度

測量點(diǎn)：儲罐

測量范圍：0~4M

介質(zhì)：VCM單體

過程溫度：-40~80

過程壓力：0~1.6MPA

甲醇立罐

甲醇儲罐多為立罐，且多有內(nèi)浮頂，選型時需考慮是否增加導(dǎo)波管。立罐測量相對簡單，罐體加裝導(dǎo)波管的采用接觸式雷達(dá)物位計(jì)，不加裝導(dǎo)波管的采用非接觸式雷達(dá)液位計(jì)。如罐內(nèi)有內(nèi)浮頂，可將內(nèi)浮頂當(dāng)做液面，測量內(nèi)浮頂?shù)木嚯x來確定液面高度。

測量任務(wù)：液位高度

測量點(diǎn)：儲罐

測量范圍：0~30M

介質(zhì)：甲醇

過程溫度：常溫

過程壓力：常壓

反應(yīng)釜

反應(yīng)釜的液位測量一直是個難點(diǎn)。由于反應(yīng)釜里多數(shù)有攪拌，伴熱等設(shè)備，導(dǎo)致很多儀表無法正常工作。雷達(dá)液位計(jì)不受攪拌，伴熱這些因素的影響，多采用非接觸式平板雷達(dá)液位計(jì)。

測量任務(wù)：液位高度

測量點(diǎn)：儲罐

測量范圍：0~10M

介質(zhì)：各種反應(yīng)介質(zhì)

過程溫度：-40~250

過程壓力：0~4MPA